高真空氣氛爐是一種間歇式感應(yīng)加熱爐，主要用于硬質(zhì)合金、粉沫冶金行業(yè)生產(chǎn)各種粒度的碳化鎢粉、碳化鈦粉、碳化釩粉等金屬粉沫及復(fù)合金屬粉沫。
高真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，真空熱處理可以實(shí)現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時(shí)，可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。
高真空氣氛爐特點(diǎn):
?。薄?300℃超高溫爐體，可兼容滿(mǎn)足細(xì)、中、粗顆粒料WC粉和復(fù)合料碳化加熱工藝。
?。病⒉捎脭?shù)顯化可編程智能控溫系統(tǒng)，全自動(dòng)高精度完成測(cè)溫控溫過(guò)程，系統(tǒng)可按給定升溫曲線升溫，并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
?。?、采用純水冷卻系統(tǒng)；數(shù)字式流量監(jiān)控系統(tǒng)，采用高性能中頻接觸器對(duì)爐體進(jìn)行自動(dòng)轉(zhuǎn)換；的PLC水、電、氣自動(dòng)控制和保護(hù)系統(tǒng) 。
４、該系統(tǒng)對(duì)碳化質(zhì)量有明顯改善，與傳統(tǒng)碳化爐相比，具有反應(yīng)*、粒度均勻、化合含碳量高、游離含碳量低等優(yōu)勢(shì)，而且產(chǎn)量高、勞動(dòng)條件好、使用壽命長(zhǎng)。
高真空氣氛爐技術(shù)參數(shù)：
?。?、zui高使用溫度：1800℃、2300℃
?。?、高溫區(qū)容積：0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、0.1m3、0.15m3、0.2m3、0.3m3
３、爐內(nèi)工作氣氛：氫氣、氮?dú)?、惰性氣體等
４、溫度均勻度：≤±10℃ 溫度測(cè)量：遠(yuǎn)紅外線光學(xué)測(cè)溫測(cè)溫范圍800~2400℃或0~2400℃；測(cè)溫精度
0.2~0.75%。
５、溫度控制：程序控制和手動(dòng)控制； 控溫精度：±1℃
?。?、極限升溫速度：200℃/分鐘（空爐）
